
半導体を中心とする電子工業や精密機械工業の発展により、精密化・微細化・高品質化・高信頼性が要求されるようになりました。これらの目標を達成するためには、製品に付着することで問題となる空気中の粒子状物質(汚染物)を減らさなければなりません。そのために工場全体や重要な作業室内を、クリーン環境にすることにより必要に応じた清浄状態に保つことが求められています。
クリーンルームは汚染制御が行われている限られた空間で、汚染物が限定されたレベル以下に管理されています。また必要に応じて温度・湿度・差圧などの環境条件についても管理をおこなうことができます。*近年では各種産業の要求レベルが厳しくなり、制御対象としてガス状物質、静電気、振動なども考慮する必要があります。
| 汚染物質 | 代表例 |
| 粒子状物質 | 粉じん、煙、ミスト、ヒューム |
| ガス状物質 | 酸性ガス、塩基性ガス、有機物質、その他の有害ガス |
| 浮遊微生物 | 藻、原生動物、菌、バクテリア、リケッチア、ウイルス |
半導体業界では、シリコンという半導体結晶を薄板(ウエハ)にしたものの上に絶縁層を幾層にも積み重ね、そこに1μの数分の1という微小な寸法でできた回路パターンを順々に作りこんでいくという超微細加工技術を駆使し、300工程以上を費やしてLSI(大規模集積回路)が製造されています。
この工程において、歩留りが高くない・不良の原因の大半が製造途中で付着する微粒子にあるといわれています。そこで歩留りを高めるためには清浄度の高いクリーン環境が求めれています。
ウエハプロセスの汚染物付着による欠陥と歩留り

薬品工場・食品工場においては、無菌に近い状態が求められています。ウイルスやさらに小さいバクテリアを除去するために、HEPAフィルタを通して空気を清浄化することにより、そうした状態を作り出すことが可能です。
特に近年では、医薬関連製造におけるGMP・バリデーション、食品工場においてはHACCPが定められたことにより、施設や設備の改造の見直し・生産過程における衛生管理・品質管理の改善が求められております。
